Smoltek överträffar milstolpen för kapacitans på 1 mikrofarad per kvadratmillimeter – bevisar kommersiell beredskap

 Smoltek Nanotech Holding AB (publ) (“Smoltek” eller ”Bolaget”) meddelar att dotterbolaget Smoltek Semi har nått en viktig teknologisk milstolpe inom utvecklingen av CNF-MIM-kondensatorer, efter att ha framgångsrikt konstruerat en avancerad dielektrisk stack bestående av zirkoniumoxid (ZrO₂) och aluminiumoxid (Al₂O₃). Detta genombrott uppnåddes genom ett nära samarbete med SkyTech, en taiwanesisk ledare inom ALD-utrustning (Atomic Layer Deposition) för halvledarindustrin. 

Det gemensamma utvecklingsarbetet, som inleddes i början av året, fokuserade på optimering och utvärdering av ALD-filmer som SkyTech deponerat på Smolteks egenutvecklade CNF-MIM testkondensatorstrukturer. Resultatet är en kapacitansdensitet överstigande 1 mikrofarad per kvadratmillimeter (1 µF/mm²) med en aktiv skikttjocklek på endast 6 µm – vilket motsvarar en volymetrisk kapacitansdensitet som överstiger 160 nF/mm²-µm, vilket är bland de högsta rapporterade volymetriska kapacitansdensiteterna för ultratunna kondensatorer i branschen.

– Att bryta 1µF/mm²-barriären är en viktig milstolpe för oss. Vår långsiktiga investering i ALD-processutveckling bär tydligt frukt, och SkyTechs avancerade ALD-teknik har varit avgörande för att nå denna rekordbrytande prestanda, säger Dr. Ghavanini, CTO på Smoltek.

– Vårt nästa fokus är att överföra detta genombrott från laboratorieprototyper till produktprototyper, med fokus på att förbättra processutbytet och isolationsmotståndet, tillägger Farzan.

– Vi är glada att kunna stödja Smoltek i att tänja på gränserna för kondensatorteknik. Vårt samarbete är ett utmärkt exempel på hur en kombination av materialinnovation med avancerad ALD-processkontroll kan låsa upp helt nya prestandanivåer. Vi ser fram emot att fortsätta vårt arbete tillsammans när Smoltek går mot produktintegration, säger George Yi, vd för SkyTech.